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去年5月，清華大學召開了“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”項目驗收會，專家組對項目任務完成情況予以高度評價，認為該雙工件臺系統(tǒng)的關鍵技術指標已達到國際同類光刻機雙工件臺水平，并一致同意該項目通過驗收。

光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機

光刻機雙工件臺系統(tǒng)有什么意義呢？工件臺系統(tǒng)是光刻機的重要子系統(tǒng)，工件臺系統(tǒng)的運行速度、加速度、系統(tǒng)穩(wěn)定性和系統(tǒng)的定位建立時間對光刻機的生產(chǎn)精度和效率起著至關重要的作用。過去，光刻機只有一個工作臺，所有流程都在一個工作臺上完成。雙工件臺系統(tǒng)的出現(xiàn)，使得光刻機能夠在不改變初始速度和加速度的條件下，當一個工作臺在進行曝光工作的同時，另外一個工作臺可以同時進行曝光之前的預對準工作，這樣一來，能使光刻機的生產(chǎn)效率提高大約35%。

在去年年底，由長春光機所牽頭承擔的國家科技重大專項02專項——“極紫外光刻關鍵技術研究”項目順利完成驗收前現(xiàn)場測試。在長春光機所、成都光電所、上海光機所、中科院微電子所、北京理工大學、哈爾濱工業(yè)大學、華中科技大學等參研單位耗費8年時間，突破了現(xiàn)階段制約我國極紫外光刻發(fā)展的核心光學技術，初步建立了適應于極紫外光刻曝光光學系統(tǒng)研制的加工、檢測、鍍膜和系統(tǒng)集成平臺，形成了一支具有國內領先、國際先進水平的研究隊伍，為開展極紫外光刻曝光光學系統(tǒng)的工程研制奠定了堅實的人才與技術基礎。根據(jù)官方披露的消息，計劃在2030年實現(xiàn)EUV光刻機的國產(chǎn)化。

多項舉措有利于提升本土技術實力

在今年3月，上海微電子裝備（集團）股份有限公司與ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄。對于這個事情，有一些網(wǎng)友認為，上海微電子要去當“偽軍”。但事實未必如此，在過去幾年，ASML認為上海微電子的一些技術構成侵權，因而一直在打官司。不過知識產(chǎn)權方面的官司往往比較冗長，比如三星蘋果世紀大戰(zhàn)，又比如施樂、蘋果、微軟之間的連環(huán)訴訟。加上中國政府也在中間協(xié)調，最后ASML不勝其煩，索性就以合作的名義，拿一筆錢，就不打官司了。

為了更好的從中國市場獲取利潤也是ASML愿意合作的原因之一。由于中國大力扶持半導體產(chǎn)業(yè)，國內中芯國際、華力微等晶圓廠都制定了在幾年后量產(chǎn)14nm芯片的計劃，加上臺積電、聯(lián)電、格羅方德先后赴中國大陸投資建廠，中國半導體產(chǎn)業(yè)在幾年后會迎來發(fā)展的井噴期，對高端光刻機的需求會大幅增加。而這也是ASML愿意和國內單位合作的重要原因——ASML與上海集成電路研發(fā)中心合作共建一個半導體光刻人才培訓中心想必也是出自這個大背景。

未來，這個培訓中心將擁有多款ASML的光刻設備和檢測設備，也將逐步對國內半導體行業(yè)企業(yè)內的光刻工程師開放。這將大幅提高中國集成電路產(chǎn)業(yè)在高端和專業(yè)技術人才方面的培養(yǎng)力度。這對國內工程師熟悉設備工藝，提升光刻技能與專業(yè)知識具有積極的促進作用。

此外，據(jù)消息人士披露，上海微電子還訂了一批Bumotec機床。Bumotec是瑞士斯達拉格旗下的子品牌，能制造世界頂尖的加工光學儀器的機床，據(jù)說比ASML用的德國機床還好點——一般人耳熟能詳?shù)哪切└叨藱C床，和斯達拉格不是一個世界的，斯達拉格專攻高精尖制造領域的制造設備，所以知道這個公司的人非常少。但名氣小不意味著技術就不頂尖。相信隨著這批機床的到貨，有助于上海微電子攻克65nm光刻機的技術難關。

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