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三星宣布完成5納米EUV工藝研發(fā)
關(guān)鍵字: 三星光刻光刻機導(dǎo)讀4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布消息稱,三星電子已經(jīng)成功完成5納米(nm)極紫外光刻(EUV)開發(fā),以實現(xiàn)芯片的更大面積擴展和帶來超低功耗。(觀察者網(wǎng)訊)4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布消息稱,三星電子已經(jīng)成功完成5納米(nm)極紫外光刻(EUV)開發(fā),以實現(xiàn)芯片的更大面積擴展和帶來超低功耗。
三星電子稱,其5nmFinFET工藝技術(shù)的開發(fā)已經(jīng)完成,現(xiàn)在可以為客戶提供樣品。通過在其基于EUV的工藝產(chǎn)品中添加另一個尖端節(jié)點,三星稱再次證明了其在先進晶圓代工市場的領(lǐng)導(dǎo)地位。
與7nm相比,三星的5nm FinFET工藝技術(shù)將邏輯區(qū)域效率提高了25%,功耗降低了20%,性能提高了10%,從而能夠擁有更多創(chuàng)新的標準單元架構(gòu)。
三星稱,5nm的另一個主要優(yōu)點是可以將所有7nm知識產(chǎn)權(quán)(IP)重用到5nm。因此,7nm客戶過渡到5nm將極大地受益于降低的遷移成本,預(yù)先驗證的設(shè)計生態(tài)系統(tǒng),從而縮短他們的5nm產(chǎn)品開發(fā)時間。
“成功完成5nm開發(fā),我們已經(jīng)證明了我們在基于EUV的節(jié)點中的能力,”三星電子鑄造業(yè)務(wù)執(zhí)行副總裁Charlie Bae說?!盀轫憫?yīng)客戶對先進工藝技術(shù)不斷增長的需求,以區(qū)分其下一代產(chǎn)品,我們繼續(xù)致力于加速基于EUV技術(shù)的批量生產(chǎn)。”
- 責(zé)任編輯:張建鑫
- 最后更新: 2019-04-16 13:50:52
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