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心智觀察所:中重稀土出口管制,事關光刻機產業(yè)對決
【文/觀察者網專欄作者 心智觀察所】
不久前,國家商務部、海關總署聯合發(fā)布公告,決定對部分中重稀土相關物項實施出口管制,包括釤、釓、鋱、鏑、镥、鈧、釔的合金、化合物、氧化物等相關物項出口,必須根據相關法規(guī)向商務部申請許可證。
消息一出,相關物項的國際市場價格應聲暴漲,專業(yè)人士甚至預期后續(xù)將會有500%乃至更大幅度的漲價。
正如心智觀察所第一時間進行的分析,此舉將會對全球供應鏈產生戰(zhàn)略性影響,尤其是對高度依賴這7種稀土材料的高性能磁體、光電材料及其下游國防軍工、醫(yī)療設備等關鍵應用領域。
許多人或許還沒有意識到的是,此次出招,對光刻機產業(yè)制高點的角逐也將帶來巨大影響。
眾所周知,EUV光刻機已然成為美國對華科技遏制的最關鍵抓手,一談起EUV,就會有各種奇奇怪怪的失敗主義論調橫行于國內輿論場,以各種看似扎實的數據言之鑿鑿論證中國無望追趕。
然而且不說新型舉國體制正在EUV技術攻堅中凝聚起的力量,單從對手的需求看,在美國管轄長臂試圖“鎖死”中國光刻機發(fā)展上限的同時,美西方自身想要將光刻技術繼續(xù)向前推進,同樣極大受制于中國稀土材料供給。
根據目前ASML發(fā)布的產品路線圖,其現有EUV產品體系沿著數值孔徑和工藝因子優(yōu)化的路徑,預計可迭代到2030年代初期的0.75NA HXE系列,此時就將到達現有技術體系的分辨率極限,2035年后,超越現有架構的“BEUV”(Beyond EUV)光刻機將取代其王者地位。
目前,海外已經相繼鋪開了BEUV關鍵技術研究,如去年底美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室(LLNL)就公開了可作為光刻機驅動激光的大孔徑銩 (BAT) 激光器,并將牽頭組建極端光刻與材料創(chuàng)新中心(ELMIC)。
ELMIC是一項為期四年、耗資1200萬美元的研究項目,將測試BAT激光器能否將EUV光源效率提高約10倍,有望催生下一代BEUV光刻系統(tǒng),該項目成員還包括ASML首席EUV光源專家Michael Purvis。
對于BEUV,目前還有多條光源技術路線正在被研究,包括中國已走在全球前沿的自由電子激光(FEL)、穩(wěn)態(tài)微聚束(SSMB)加速器等,不過最新版IRDS光刻路線圖中也坦言,替代方案的最大挑戰(zhàn)是缺乏產業(yè)生態(tài),因此“向公用事業(yè)規(guī)模光源架構的必要范式轉變具有足夠的顛覆性,需要就其開發(fā)和相關的生態(tài)系統(tǒng)/基礎設施變革達成廣泛共識”。
基于這一背景,業(yè)界對于開發(fā)短波長(6.X納米)的激光等離子體光源給予了高度重視,有很大概率成為優(yōu)選技術路線,原因不僅是其技術原理與當前EUV光刻機有較高繼承性,且多層鏡組成的反射式光學系統(tǒng)在6.X納米波長下理論反射率可高達70%。
標簽 心智觀察所- 原標題:中重稀土出口管制,事關光刻機產業(yè)對決 本文僅代表作者個人觀點。
- 責任編輯: 李昊 
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